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氣刀壓力過(guò)低，貼輥效果不良；氣刀壓力偏高，會(huì)增加薄膜內(nèi)的晶點(diǎn)數(shù)量。壓力過(guò)高時(shí)．會(huì)將薄膜吹得抖動(dòng)，造成薄膜的厚薄公差加大，甚至將膜吹破。
從模唇到氣刀噴口中的氣流使薄膜接觸冷卻輥的接觸線之間的距離稱(chēng)為氣隙。氣隙短時(shí)，膜的彈性模量提高，模唇間隙大時(shí)的平面取向性也提高；而沖擊強(qiáng)度、撕裂強(qiáng)度和模唇間隙小時(shí)的平面取向度降低。霧度則在某一適當(dāng)氣隙時(shí)呈低值。
生產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)水平和裝備水平，在一定程度上是生產(chǎn)水平的標(biāo)志。選擇生產(chǎn)設(shè)備的主要條件有： 設(shè)備的生產(chǎn)效率、質(zhì)量情況、能源和原材料消耗情況、使用壽命、可靠性、可維修性、成套性(包括單機(jī)配套、機(jī)組配套、項(xiàng)目配套)、靈活性(包括適應(yīng)性、通用性以及結(jié)構(gòu)、重量、體積情況)、對(duì)環(huán)境的影響以及投資費(fèi)用等。
對(duì)三層共擠CPP的各層原料要求如下：電暈處理層(電沖擊層)：MFR為6～12g/10min。中間層(芯層)：MFR佳為6～10g/10min。芯層要有出色的剛性，所以芯層大多使用均聚物制成。占全部膜重的60%～70%。熱封層(非處理層)：MFR為6～12g/10min。具備良好的熱封性能。還具有滑爽性、抗粘連性、析出量少、揮發(fā)成分少等特性。120℃以上蒸煮殺菌，原料用三元共聚物 。
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