EDI模塊的維護主要是針對出水量下降、水質惡化等問題，是對EDI進行清洗、調整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內部故障而需要維修。
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EDI損壞的主要原因

EDI模塊是純水或者超純水設備的核心部件，當EDI運行不穩(wěn)定或者無法使用時，會造成拋光混床樹脂的使用期限降低或者失去使用效果，***終導致水質產出異常，從而影響生產工作。

引起EDI模塊故障的原因主要有以下幾點：

1、當模塊長期處于大電流、小流量的運行狀態(tài)時，運行溫度會增加并且不能及時散熱，將會導致兩極膜片受熱變形，導致進出水壓差增大，產水水量減少、水質下降。

2、當EDI模塊長期沒有保養(yǎng)或清洗，將會使得EDI內部膜片和通道結垢，進出水壓差增大，產水水質下降，電壓上升，電流調節(jié)異常，***終將導致模塊無法使用，影響工作進度。

3、當清洗、保養(yǎng)時使用不合適的藥劑,會使得模塊內部樹脂破損，導致進出水壓差增大，產水水量減少、水質下降。

4、在缺水缺水狀態(tài)加電，導致膜片和樹脂發(fā)熱碳化。

深圳超純環(huán)保股份有限公司有***維修技術人員可以對EDI模塊、CEDI模塊的損壞程度進行診斷并提供維修/再生服務，***EDI模塊恢復正常水平，避免更換模塊的***，用較少***延長使用時間。

如何選擇EDI電源？

　　在選擇EDI電源之前，我們需要明確EDI系統(tǒng)的產水流量、CEDI模塊的品牌、CEDI模塊的數(shù)量以及型號等參數(shù)，不同品牌，不同廠家生產的CEDI膜堆流量、運行壓力、電壓、電流是不相同的。在明確每臺CEDI模塊的流量，運行電壓和電流之后，我們就可以選擇相應的EDI電源了。目前在國內，好的EDI電源品牌主要有上海懿博和上海萌欣，可以配套使用在0.5噸-5噸流量，電流0-10A，電壓0-600V的CEDI模塊上。如果您對EDI電源的選型上還有疑問，

超純水在光學領域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質純度已成為影響光學器件產品質量、產量和生產成本的重要因素之一。

　　光學領域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質，會影響電子管的質量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內壁上附著一層熒光物質，該熒光物質是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質量。

　　6、在晶體管和集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設備已經成為電子產品質量安全的重要設備。根據光學元件用水要求，對超純水處理技術進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質，進一步改善水質，使出水水質滿足現(xiàn)場光學元件的用水要求。在原料選擇、設計技術、數(shù)據監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。

使用EDI超純水系統(tǒng)時有一定的規(guī)則，用戶需要遵守這些規(guī)則。，在使用設備時，不能立即進入工作狀態(tài)。操作前預熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統(tǒng)的維護和使用注意事項。

　　一、EDI超純水系統(tǒng)運行

　　設備在運行一段時間后可能會發(fā)熱。這是正常的，但在設備運行了一定時間后，有必要讓設備休息一下。

　　此外，EDI超純水系統(tǒng)的工作時間為每天8小時，10小時可以，但使用一段時間后，用戶清潔設備以恢復受污染設備的原始性能。在恢復設備性能的同時，應盡可能確保清洗安全，避免損壞超純水系統(tǒng)。