厚膜負性光刻膠
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厚膜負性光刻膠 – 刪減或添加工藝 | |
· 刪減&模型應用
o 硅的深度刻蝕，類如博施工藝（波希法），玻璃及聚合體
o 硅的浮雕模型
· 添加應用
o 用于倒轉(zhuǎn)（裝）芯片封裝，多芯片組件，微系統(tǒng)，感光芯片，薄膜磁頭的高縱橫比電鍍凸塊的制作
· 刪減模型的特性
o 的耐溫性適用于離子刻蝕及離子銑削制程
o 在深度刻蝕中比正膠有更多的選擇性
o 對小于380nm的波長有很好的靈敏度
· 添加應用的特性
o 在電鍍制程中有很好的粘附性
o 電鍍后用FUTURREX的去膠液易于去除
o 對小于380nm的波長有很好的靈敏度
· 對生產(chǎn)率的影響
o 省去了溶劑顯影和溶劑漂洗制程步驟
· 優(yōu)勢
o 良好的線寬控制
o 側(cè)壁的垂直度不隨膜后（厚）而變
o 單次旋涂可達到100微米厚度
o 在厚膜應用中有很好的分辨率
o 的光刻速度可以提高曝光效率
o 便于增加功率密度在離子刻蝕/離子銑削制程中，從而提高蝕刻效率
o 單個顯影液可適用于正性光刻膠和負性光刻膠
o 無需使用增粘劑
ICROPOSIT??MF?CD-26
面議
產(chǎn)品名：ICROPOSIT??MF?CD-26,S1805?G2,S1818G2,S1813G
Merck集團光刻膠AZ4562
面議
產(chǎn)品名：AZ 4562,Merck集團光刻膠,AZ正性光刻膠 AZ4562,AZ4533
安智AZ光刻膠AZ5206和AZ5214
面議
產(chǎn)品名：AZ 5206,AZ5214,安智AZ光刻膠
AR600-548光刻膠德國Allresist
面議
產(chǎn)品名：AR 600-548,正電子束光刻膠,AR-P 6200,德國Allresist
AZ726MIF的顯影液
面議
產(chǎn)品名：AZ726MIF的顯影液,AZ nLOF 2000光刻膠,AZ 826 MIF,AZ 400K
Merck集團光刻膠AZ7908光刻膠
面議
產(chǎn)品名：AZ7908光刻,az 光刻膠正性,AZ 7904,AZ 7905
AZREMOVER700Merck集團光刻膠
面議
產(chǎn)品名：Merck集團光刻膠,AZ去膠液 安智顯影液,Merck集團
正性負性光刻膠安智AZAZGXR-601
面議
產(chǎn)品名：AZ AZGXR-601,AZ GXR601M1,AZ MIR701R