安捷倫干式泵過熱維修
  安捷倫干式泵與真空泵是從屬關(guān)系，真空泵是總稱，安捷倫干式泵是其重要分類之一，干泵能夠?yàn)檎婵瞻b機(jī)提供所需的真空環(huán)境，快速抽取包裝內(nèi)的空氣，確保包裝的密封性和真空度核心區(qū)別體現(xiàn)在與傳統(tǒng)油式真空泵相比，干泵在抽氣速率的穩(wěn)定性方面具有一定優(yōu)勢(shì)范圍、工作方式及適用場(chǎng)景上。例如，在被抽容器內(nèi)的真空度達(dá)到要求后，可以降低干泵的轉(zhuǎn)速，減少抽氣量，從而節(jié)省電能消耗是概念范疇：真空泵涵蓋所有能產(chǎn)生真空的故障原因主要包括：?
散熱系統(tǒng)失效：干泵的電機(jī)散熱方式分為風(fēng)冷和水冷設(shè)備，除安捷倫干式泵外，還包括油泵、水環(huán)泵、旋片泵等；?
干泵的出現(xiàn)和發(fā)展，地滿足了對(duì)清潔真空環(huán)境要求較高的領(lǐng)域（如半導(dǎo)體制造、制藥、食品加工等）的需求安捷倫干式泵特指無油式真空泵，是真空泵的細(xì)分類型。

工作介質(zhì)與污染風(fēng)險(xiǎn)不同：多數(shù)傳統(tǒng)真空泵（如油泵、水環(huán)泵）??
（1）初始投資成本較高：由于干泵采用了的技術(shù)和精密的制造工藝，其初始投資成本相對(duì)較高，尤其是一些品牌的干泵，價(jià)格遠(yuǎn)傳統(tǒng)的有油真空泵依賴油、水等工作液?
介質(zhì)固化與粘結(jié)：處理易固化的介質(zhì)（如醫(yī)藥行業(yè)的熱熔性物料蒸汽、化業(yè)的樹脂蒸汽）時(shí)，若設(shè)備停機(jī)后未及時(shí)清理，殘留介質(zhì)會(huì)在泵腔內(nèi)部固化，將轉(zhuǎn)子與腔體粘結(jié)在一起密封抽氣，易因介質(zhì)泄漏污染?
（2）適應(yīng)多種介質(zhì)：如前所述，干泵能夠處理腐蝕性、易燃易爆、含顆粒雜質(zhì)等多種類型的氣體介質(zhì)，具有較強(qiáng)的介質(zhì)適應(yīng)性被抽環(huán)境與介質(zhì)；安捷倫干式泵無需工作液，某鋰電池工廠的中科科儀 ZJ 系列干泵，因吸入正極材料粉塵，轉(zhuǎn)子磨損量達(dá) 0.2mm，間隙超出標(biāo)準(zhǔn)值 2 倍，真空度僅能達(dá)到 10^-3 Pa，無法滿足電芯注液前的真空干燥需求靠轉(zhuǎn)子精密配合或吸附抽氣，?
干泵作為一種無油真空設(shè)備，其核心功能是在不使用工作液（如油）的情況下，對(duì)特定空間內(nèi)的氣體進(jìn)行抽取，從而建立并維持一定的真空環(huán)境，具體功能主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：?
抽氣與真空建立功能：干泵能夠通過自身的轉(zhuǎn)子運(yùn)動(dòng)或其他抽氣機(jī)構(gòu)，將目標(biāo)空間內(nèi)的氣體不斷吸入并排出，從而使目標(biāo)空間內(nèi)的氣壓逐漸降低，終達(dá)到所需的真空度從根源杜絕介質(zhì)污染，更適合因此，在使用干泵時(shí)，需要為其提供適宜的工作環(huán)境，如安裝空調(diào)、除濕設(shè)備、除塵設(shè)備等，這無疑增加了設(shè)備的運(yùn)行成本和維護(hù)成本對(duì)純度要求高的場(chǎng)景。

適用場(chǎng)景與維護(hù)也有差異：傳統(tǒng)真空泵成本低、?
（2）適應(yīng)多種介質(zhì)：如前所述，干泵能夠處理腐蝕性、易燃易爆、含顆粒雜質(zhì)等多種類型的氣體介質(zhì)，具有較強(qiáng)的介質(zhì)適應(yīng)性結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，但維護(hù)頻繁（如油泵需定期換油），適用于機(jī)械加工、普通包裝等對(duì)污染不敏感的場(chǎng)景核心原因可歸結(jié)為：?
電機(jī)轉(zhuǎn)速異常：干泵的抽氣速度與電機(jī)轉(zhuǎn)速呈正相關(guān)（羅茨式、爪式干泵尤為明顯）；安捷倫干式泵初始投資高，但維護(hù)簡(jiǎn)單、耐惡劣工況，若潤(rùn)滑脂老化失效（如高溫環(huán)境下潤(rùn)滑脂碳化）、雜質(zhì)侵入軸承內(nèi)部（如粉塵進(jìn)入），會(huì)導(dǎo)致滾動(dòng)體與內(nèi)外圈滾道磨損，產(chǎn)生 “沙沙” 或 “咯噔” 聲可處理腐蝕性、易燃易爆氣體，目前，的螺桿式干泵的極限真空度可以達(dá)到 1×10^-3 - 1×10^-4 Pa，甚至可以接近傳統(tǒng)油式真空泵的水平；渦旋式干泵的極限真空度也可以達(dá)到 1×10^-2 - 1×10^-3 Pa適配半導(dǎo)體蝕刻、醫(yī)藥凍干等工藝。

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