石英粉是用純石英（天然石英或熔融石英）經(jīng)破碎、揀選、清洗、酸處理、高溫熔化、中碎、細磨、分級、除鐵等多道工序加工而成的符合使用要求的粉體。石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式，各種常規(guī)規(guī)格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M為目數(shù))。另外也可按客戶要求加工異型規(guī)格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等級，只分規(guī)格。因其具備白度高，無雜質、鐵量低等特點，故應用范圍廣。

石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式，各種常規(guī)規(guī)格：120M，200M，260M，325M，600M,800M,1000M及2000M(M為目數(shù))。另外也可按客戶要求加工異型規(guī)格，要求粒度分布的一般也可加工。

石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式:
　　1、干法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、粉碎機、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過粉碎機加工砂粒，然后經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
　　2、水法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動篩、水路系統(tǒng)等。
　　其工藝流程大致如下：石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過石碾碾壓成砂粒，碾壓時不停的加水，水帶著砂粒流入沉淀池內(nèi)，再把沉淀池內(nèi)的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒，然后再經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。

優(yōu)良的自然石英,經(jīng)由過程怪異的低溫處置工藝加工而構成的粉末,重鈣粉使其份子布局分列由有序分列轉為無序分列.其色白,純度較高、活動機能好、并具備如下機能:
　　一、精良的光學性子:方石英的折射率從石英的1.55降低到1.48,更靠近PE、PP及一些樹脂的折射率.夾雜后的樹脂呈通明狀,不粉飾顏料自己的色采,而用別的填料添補則會使顏料的色采變淺、失真.
　　二、反射率:方石英的詳細布局有助光反射,可代替玻璃微珠作反光油漆,既可加強防滑性,又可進步油漆的反光性.
　　三、白度,低密度、光彩亮光:方石英的白度達95%以上,在涂料、油漆中使用,可代替部門鈦白粉,低落配方本錢.
　　四、抗腐化,耐刻畫、耐擦洗、耐磨機能好.
　　五、不含有機物凈化,金屬含量極低:可加強涂料的抗紫內(nèi)線本領,并具備精良的絕緣性、精良的電磁輻射性和低的介電常數(shù).
　　六、精良的抗熱震性.方石英受熱220m240℃左右時,產(chǎn)生必定水平的熱收縮,恰好抵償環(huán)氧樹脂、石膏等在此溫度下固化反響時的緊縮,使?jié)沧Ⅲw不變形.
　　七、極低的熱收縮系數(shù)、抗積淀性好、抗腐化性好.
　　利用行業(yè):電子質料、高功效環(huán)氧樹脂、緊密鍛造、電瓷、電子晶片打磨、拋光質料、珠寶行業(yè)、特種陶瓷質料、特種耐火質料、造紙、涂料油漆涂料、緊密模具、屏障質料行業(yè),日用化工,粘合劑,塑料,PTC質料、航空、航天、齒科質料和硅橡膠等中填料,各種產(chǎn)業(yè)庇護涂料、木器、粉末涂料、油墨及其余功效性利用

石英粉、石英砂、硅微粉的分類如下：
普通石英砂(粉)，精制石英砂，高純石英砂，熔融石英砂及硅微粉等等。

不規(guī)則狀石英粉用顯微鏡來看其實呈現(xiàn)多角型，是將石英粉直接研磨的結果；球狀石英粉是將不規(guī)則狀石英粉置于接近融點的高溫，讓原來存在不平整的邊邊角角融化，然后再降溫冷卻，就可以得到球狀石英粉。

硅微粉是一種、無味、的無機非金屬材料。由于它具備耐溫性好、耐酸堿腐蝕、導熱系數(shù)高、高絕緣、低膨脹、化學性能穩(wěn)定、硬度大等優(yōu)良的性能，被廣泛用于化工、電子、集成電路（IC）、電器、塑料、涂料、油漆、橡膠、等領域。隨著高技術領域的迅猛發(fā)展，硅微粉亦將步入新的歷史發(fā)展時期。

硅微粉是由天然石英（SiO2）或熔融石英（天然石英經(jīng)高溫熔融、冷卻后的非晶態(tài)SiO2）經(jīng)破碎、球磨（或振動、氣流磨）、浮選、酸洗提純、高純水處理等多道工藝加工而成的微粉。
微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應，反應氣體經(jīng)旋風分離除去雜質，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi)，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶，用酸除去雜質，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進行進一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開式電弧爐，加熱到1900℃左右進行還原。