穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。

在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類型，根據(jù)需要進行調(diào)配。

2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，及時更換或補充添加。

氧化鋁拋光液作為一種常用的表面處理劑，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。正確選擇和使用拋光液，可以提高材料的表面質(zhì)量和光潔度，達到預期的拋光效果。

氧化鋁拋光液是一種以多晶氧化鋁為主，氧化鋁顆粒大小均勻，相比氧化硅拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節(jié)約30-50%，加工流程縮短，且不會在工件表面上形成硅元素結晶，減少清洗成本。

化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術具有特的化學和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據(jù)所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果?；瘜W機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產(chǎn)生很大的影響。

目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。

使用與用量：
推薦用量為1～20％，使用者應根據(jù)不同體系經(jīng)過試驗決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。
◆ 使用時，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調(diào)制不同濃度。

當我們使用了這種拋光液之后，它可以通過純粹的機械拋光快速地去除材料，達到不錯的表面處理效果。而如果選用其它種類的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過化學/機械的拋光方法與材料表面形成反應層。雖然柔軟的硅膠去除反應層也可以得到一個的表面，但是在工藝上無疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性拋光成型的。所以大家在大部分的情況下，比如我們在做金相時，往往都是使用這種可以通過純粹機械拋光的拋光液。