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有些真空鍍膜機(jī)真空計的讀數(shù),與氣體種類有關(guān),比如熱偶計,電離真空計。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì),這些真空計便成了探測器,一般鍍膜機(jī)上都有真空計,使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質(zhì)有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計反應(yīng)較慢,觀察要很仔細(xì)。用于電離計的示漏物質(zhì)有氦,氬,酒精等。
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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
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